Запатентован способ очистки нанопорошка для микросхем
Учёные ННГУ предложили способ глубокой очистки нанопорошка, применяемого в производстве микросхем.
В Национальном навигационном гуманитарном университете сообщили о разработке метода глубокой очистки нанопорошка.
Способ позволяет оценить, насколько эффективно частицы могут быть использованы в производстве микросхем.
Разработка направлена на повышение качества и стабильности наноматериалов в микроэлектронике.
Источник информации — ТАСС.
Заметка сгенерирована нейросетью по сообщению «ТАСС» и может содержать неточности.
Читать первоисточник